Этот лазерный гигант получил тайный визит от генерального директора TSMC

По сообщениям корейских СМИ, генеральный директор TSMC Вэй Чжэцзя 26 мая посетил штаб-квартиру ASML в Голландии, а также посетил 100-летие немецкого промышленного лазерного гиганта Tonspeed.
Кристоф Фуке, генеральный директор ASML, и Никола Лейбингер-Каммюллер, генеральный директор Thomson, раскрыли информацию о местонахождении Вэя в социальных сетях.
Сообщается, что TSMC рассматривает возможность внедрения оборудования High NA EUV для 1,6-нм процесса после A16, массовое производство которого запланировано на вторую половину 2026 года, а до тех пор использует существующее оборудование Low NA EUV, которое имеет решающее значение для суб-2нм процессов производства чипов.
Согласно последним новостям, новая технология ASML High NA EUV литографической пластины со скоростью производства составляет от 400 до 500 пластин в час, что в 5 раз превышает текущий стандарт EUV — 200 пластин в час 2-2, то есть на 100–150% больше, что позволит еще больше увеличить производительность и снизить затраты.
В прошлом году Intel стала первой в отрасли, получившей ASML для своего индивидуального дизайна нескольких High NA EUV-оборудования. Теперь отрасль ожидает, что Intel полностью использует это новое поколение литографии в своем полупроводниковом процессе 14A (1,4 нм).
Ранее TSMC, со своей стороны, заявляла, что не будет закупать новейшее оборудование High-NA EUV у ASML, поскольку считала его слишком дорогим и экономически нецелесообразным до 2026 года. Однако сейчас эта идея, похоже, пошатнулась.
Главным героем этого секретного визита был не только ASML, но и лазерный гигант TRUMPF из Германии. Основанная в 1923 году, компания TRUMPF в прошлом году отметила свой 100-летний юбилей.
Trumpf Group — единственный производитель в мире, который может поставлять источники света для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Поэтому бизнес EUV-литографии также является одним из направлений развития Trumpf в настоящее время.
Фактически, Trafigura инвестирует в системы генерации лазеров для литографии уже более 16 лет. С 2005 года Trafigura сотрудничает с Cymer Inc. в Соединенных Штатах и ​​продолжает углублять сотрудничество после того, как Cymer была приобретена ASML. Для этой цели TRUMPF создала специализированную дочернюю компанию TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, сосредоточившись на разработке и производстве EUV-лазеров. В 2015 году ASML заказала у TRUMPF 15 инструментов для литографии EUV, обозначив бизнес EUV-литографии как центральный элемент развития Thomson.
Согласно ранее опубликованному отчету Trafigura за 2022/2023 финансовый год (заканчивается 30 июня 2023 года), общий объем продаж достиг 5,4 млрд евро, что на 27% больше, чем в предыдущем году.
Среди них продажи EUV-бизнеса достигли 971 млн евро, увеличившись на 22,2% в годовом исчислении. В основном для поставки устройств экстремального ультрафиолета (EUV) поставляются сверхмощные лазеры на диоксиде углерода, используемые для управления излучением EUV в огромном исходном модуле литографического инструмента ASML.
В нашей стране до сих пор нет предприятия, способного массово производить источники света для литографии EUV. Однако, согласно последним новостям, 14 мая Шанхайский институт оптики и точного машиностроения Китайской академии наук (SIPM) совместно с Харбинским технологическим институтом (HIT) и Шанхайским технологическим институтом (SIT) совершили крупный прорыв в области экстремального ультрафиолета (EUV) и мягкого рентгеновского излучения и успешно реализовали структурную вихревую модуляцию света. Этот знаменательный прогресс не только знаменует собой важный шаг вперед в области технологий источников света для экстремального ультрафиолета в Китае, но и более глубокие внутренние исследования и разработки в области литографии преодолели основные технологические барьеры.
Кроме того, некоторые отечественные предприятия, такие как AOP Optronics, Fujin Technology и т. д., также активно участвуют в разработке и производстве технологий, связанных с фотолитографией. Среди них, основной акционер фотоэлектрического AOP Чанчуньский институт оптической техники Китайской академии наук, который участвует в отечественном литографическом источнике света, оптической части НИОКР;
Компания Fuching Technology — технологический единорог в области литографических материалов под управлением CAS, которая разработала KBBF, нелинейный оптический кристаллический материал, полное название KBeNbBFO, который может преобразовывать лазерный свет в глубокий ультрафиолетовый лазерный свет с длиной волны 176 нм.
Этот источник лазерного света глубокого ультрафиолета имеет чрезвычайно высокую энергию и очень высокую концентрацию, поэтому его можно использовать для создания твердотельных лазеров глубокого ультрафиолета. А в области производства чипов он может повысить точность существующей фотолитографии более чем в 10 раз, тем самым значительно повысив эффективность и точность производства чипов.
В настоящее время, хотя эти отечественные достижения еще не достигли уровня массового производства источников света для EUV-литографии, они заложили основу для дальнейшего развития Китая в области литографических технологий.